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Chemraz® XCD는 Perfluoro-Elastomer로서 프런트엔드(Front-end) 반도체 온도 처리 장비의 가장 엄격한 요구 사항을 충족시킬 수 있도록 특별히 고안되었습니다. Chemraz® XCD는 일반적으로 LPCVD(low pressure chemical vapor deposition), RTP(rapid thermal process)  및 에피텍스(epitaxial) 증착 시스템에서 발견되는 극심한 온도 문제를 견딜 수 있습니다.

 

Chemraz® XCD는 고유한 폴리머 및 필러 구조를 가지고 있기 때문에 높은 작동 온도 (> 300°C/572ºF)에서 현재 시장에 출시된 어떠한  Perfluoro-Elastomer보다 우수한 복원력을 제공하여 씰링 무결성을 높이고 씰링 수명을 연장시킬 수 있도록 합니다.

 

즉, 설비 Down시간을 절감하고 웨이퍼 처리 수율이 높아지게 됩니다. Chemraz XCD는 고온 분야에서 Perfluoro-Elastomer 재료에 대한 가장 낮은 아웃개싱(Outgassing) 프로파일을 가지고 있어서 더욱 깨끗한 프로세스 환경을 제공합니다. Chemraz XCD는 최대 300°C의 작동 온도 까지 최상의 복원력을 유지하면서 안정된 상태로 있습니다.

• Chamber seals

• Gas inlet/outlet seals

• Gate valve seals

• Isolator valve seals

• Reaction chamber lid seals 

• Seals in close proximity to high-temperature wafer heaters

• Slit valve seals 

• Tube capping seals

추천 공정 분야

• LPCVD (low pressure chemical vapor deposition)(Silicon Nitride, Silicon Oxide) 

• RTP (rapid thermal process)(Annealing, Oxidation, Nitridation, Silicidation)

• Epitaxial deposition

• Thermal CVD

• Atomic layer deposition

• Silicon wafer ingot growing

• SOI annealing