top of page

CHEMRAZ® E38

MINIMAL CONTAMINATION IN DRY PLASMA PROCESSES

건식 플라즈마 공정에서의 최소한의 오염

Chemraz® E38은 씰 신뢰성과 매우 낮은 오염이 필수적으로 요구되는 고밀도 플라즈마 시스템(high-density plasma)과 확산 공정을 위하여 특별히 개발되었습니다.

 

켐라즈 E38은 뛰어난 화학적 융화성을 제공하며, 다양하고 가혹한 화학 물질에 견딜 수 있습니다.

 

무한한 형상과 단면의 씰 제작이 가능하며 또한 여러가지 정적/동적(static/dynamic) 건식 공정(dry processing applications)에 요구되는 다양한 필요조건들을 충족시킵니다.

 

특히 슬릿 밸브(slit valve) 용으로 추천되며, 높은 씰링 하중을 가하지 않는 곳에서 서비스 온도 260°C까지 안정성이 있습니다. 

특징 및 장점 

 

  • 극소의 오염

  • 가혹하고 다양한 화학물질에 대한 내성

  • 우수한 물성치

  • 낮은 금속이온 함유

  • 무한한 설계 유연성

적용

  • Bonded gate seals

  • Chamber seals

추천 공정 분야

  • Deposition (CVD, PECVD, RPCVD, HDPCVD, APCVD, SACVD, DCVD)

  • Remote plasma cleans

  • Oxidation (LPCVD)

  • Diffusion

  • Metalization (CVD, PVD, sputtering, evaporation) 

  • Dry plasma etch 

  • Dry ashing 

  • Ion implant 

  • Implant anneal 

  • Rapid thermal processing (RTP)

bottom of page