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CHEMRAZ® 667

EXTENDS SEAL LIFETIME IN O2 PLASMA PATENT-PENDING STICTION TECHNOLOGY

O² 기반 플라즈마 에칭에서 강화된 성능

고도의 건식 O2 기반 플라즈마 에칭 시스템의 요구를 충족시킬 수 있도록 특별히 개발된 Chemraz® 667의 고유한 성분 조성은 갈라짐에 대한 내성을 강화하고 물리적인 특성을 개선합니다.

 

이것은 부드럽고 낮은 정지 마찰의  과불소탄성체(perfluoro-elastomer)이기 때문에 작동 시간이 길어지고 웨이퍼의 처리 수율이 높아집니다.

 

정적 및 반운동 산소 에칭 웨이퍼 처리 분야에 모두 권장되는 Chemraz 667은 최대 300°C의 연속적인 서비스 온도에서도 안정적입니다.

특징 및 장점 

 

  • 뛰어난 O2 기반 플라즈마 내성

  • 경도가 낮아서 씰링 설치가 용이

  • 낮은 압축 세트로 서비스 수명 연장

  • 마찰력이 낮아서 반운동 씰링 분야에서 찢어짐 현상이 감소

  • 고유한 조성 성분으로 최대 300°C의 고온에서도 견딤

적용

  • Chamber seals

  • Endpoint windows

  • Lid seals

  • Gate Valve seals

  • Window seals

  • KF fitting seals

  • Gas inlet seals

  • Slit valve seals

  • Isolator valve seals

추천 공정 분야

  • Dry O2 based plasma etch(건식 O2 기반 플라즈마 에칭)

  • Remote O2 based plasma cleans(원격 O2 기반 플라즈마 Clean)

  • Dry ashing(건식 에칭)

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