top of page

CHEMRAZ® 639

MINIMAL PARTICULATION AND MAXIMUM PLASMA RESISTANCE

최소한의 분진과 우수한  플라즈마 저항성

과불소 탄성체인 켐라즈 639는 공격적인 플라즈마 시스템에 맞도록 특별히 개발되었습니다. 고유 첨가물 시스템의 다양한 과불소 탄성체로 개발된 화학적 저항성이 매우 우수한 과불소탄성체 입니다.

 

이 제품의 독특한 제조법은 산소와 불소 플라즈마 공정에서의 내플라즈마성을 강화시켜 오염과 고장시간을 줄이고 웨이퍼의 생산성을 높여줍니다.

 

켐라즈639는 불소탄성체의 나노 입자 합성물 기술을 이용한 진보된 화합물로부터 개발되었습니다.

 

켐라즈639는 식각(etch) 원격 플라즈마 청소(remote plasma clean) 및 증착(CVD, HDPCVD, etc.)과 같은 정적/동적(static/dynamic) dry공정용으로 추천합니다.

 

서비스 온도 260°C까지 안정성이 있습니다.

특징 및 장점 

 

  • 산소와 불소 공정 환경에서의  뛰어난 내 플라즈마성

  • 최소한의 분진과 최소한의 표면저하

  • 고순도 및 극히 낮은 금속이온 함유

적용

  • Endpoint windows

  • Bell jar seals

  • Valve seals

  • KF fitting seals

  • Window seals

  • Isolator valve seals

  • Gas inlet seals

  • Slit valve seals

  • Lid seals

  • Chamber seals

추천 공정 분야

  • Deposition (CVD, PECVD, RPCVD, HDPCVD, APCVD, SACVD, DCVD)

  • Dry plasma etch

  • Remote plasma cleans

  • Dry ashing

  • Oxidation (LPCVD)/Diffusion

  • Metalization (CVD, PVD, sputtering, evaporation)

bottom of page