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CHEMRAZ® 570

MINIMAL PARTICULATION AND MAXIMUM PLASMA RESISTANCE

최소한의 파티클과 극대화된 플라즈마 저항성

엄격한 씰의 신뢰성과 오염 관리를 요하는 다양한 종류의 반도체 장비 wet 공정용으로 켐라즈 570을 추천합니다.

 

이 씰의 재질은 장기간의 정적 사진석판(static photolithography), 산/솔벤트(acid/solvent) 및 초고순도 물(ultrapure H2O)등에서 뛰어난 성능을 제공합니다.

특징 및 장점 

 

  • 매우 낮은 오염성

  • 개선된 성능과 높아진 신뢰도

  • 우수한 물성치

  • 검증된 뛰어난 성능

적용

  • Valve seals

  • Fitting and union seals

  • Gaskets

  • Regulator seals

  • Filter seals

  • Dispensing seals

추천 공정 분야

  • Wet etch (acid, base)

  • Wet stripping (solvents)

  • Wet cleaning (UPDI)

  • Wet metal plating

  • Chemical Mechanical Planarization (CMP)

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