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CHEMRAZ® 520

FOR HARSHER CHEMISTRIES AND HIGHER SEALING LOADS

 가혹한 화학적 특성 및 높은 씰링 하중을 위한 화합물

Cemraz® 520은 최소의 오염과 씰의 신뢰성이 요구되는 다양한 드라이 공정용 반도체 장비에 사용됩니다.

 

이 씰의 재질은 정적(static) 사진석판(photolithography)공정 뿐만이 아니라 정적/동적 플라즈마(static/dynamic plasma)와 확산(diffusion)공정에서 매우 우수한 성능을 제공합니다.

 

켐라즈 520은 온도가 240°C를 넘지 않는 높은 씰링 하중을 가하는 곳에 사용될 수 있도록 제조되었습니다.

 

이 재질의 높은 경도로 인하여 낮은 온도에서 사용할 때에는 씰 설치시 상대 표면 조도를 10microinches(Ra) 또는 그 이하로 할 것을 추천합니다.

특징 및 장점 

 

  • 우수한 플라즈마의 저항성

  • 우수한 물성치

  • 최소한의 오염성

  • 높은 씰링(sealing) 하중용

  • 고온 작용에서의 검증된 뛰어난 성능

적용

  • Door seals

  • Slit valves

  • Isolator valve seals

  • Lid seals

  • Gas inlet seals

  • KF fitting seals

추천 공정 분야

  • Metalization (CVD, PVD, sputtering, evaporation)

  • Deposition (CVD, PECVD, RPCVD, HDPCVD, APCVD, SACVD, DCVD)

  • Dry plasma etch

  • Remote plasma cleans

  • Dry ashing

  • Oxidation (LPCVD)/diffusion

  • Implant anneal

  • Rapid thermal processing (RTP)

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