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CHEMRAZ® 513

UNIVERSAL COMPOUND FOR CONVENTIONAL APPLICATIONS

 종래의 응용분야에 적합한 범용 화합물

Chemraz® 513은 최소의 오염과 씰의 신뢰성이 요구되는 다양한 드라이 공정의 반도체 장비에 사용됩니다.

 

이 재질은 온도가 210°C를 넘지 않고 높은 씰링 하중을 가하지 않는 정적 플라즈마(static plasma)에서의 사진 석판(photolithography)과 확산(diffusion)공정 등에서 뛰어난 성능을 보입니다.

 

이 재질의 경도 값은 상대 표면 조도의 불일치를 어느 정도 허용합니다.

특징 및 장점 

 

  • 우수한 플라즈마의 저항성

  • 우수한 물성치

  • 최소한의 오염성

  • 검증된 뛰어난 성능

적용

  • Door seals

  • Slit valves

  • Windows seals

  • Isolator valve seals

  • Lid seals

  • Gas inlet seals

  • KF fitting seals

추천 공정 분야

  • Metalization (CVD, PVD, sputtering, evaporation)

  • Deposition (CVD, PECVD, RPCVD, HDPCVD, APCVD, SACVD, DCVD)

  • Dry plasma etch

  • Remote plasma cleans

  • Dry ashing

  • Ion implant

  • Implant anneal

  • Rapid thermal processing (RTP)

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